据知情人士透露，中国最大的晶圆代工厂中芯国际已经订购了一台EUV设备，在中美两国贸易紧张的情况下，此举旨在缩小与市场领先者的技术差距，确保关键设备的供应。EUV是当前半导体产业中最先进也最昂贵的芯片制造设备。
中芯国际的首台EUV设备购自荷兰半导体设备制造商ASML，价值1.2亿美元。尽管中芯目前在制造工艺上仍落后于台积电等市场领导者两到三代，此举仍突显了该公司帮助提升中国本土半导体制造技术的雄心壮志，也保证了在最先进的光刻设备方面的供应。目前包括英特尔、三星、台积电等巨头都在购买该设备，以确保
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中芯 EUV
种种迹象表明，2018年将是移动处理器、半导体等行业迎来转折的一年，多种技术经历多年沉淀后会在今年完成应用，然后在2019年爆发。
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台积电 芯片 EUV
载具对于曝光机发挥保护、运送和存储光罩等功能十分重要。家登精密多年来致力于研究曝光机载具，并为全球最大的半导体设备制造商ASML提供载具相关技术。
我们主要研究EUV的配套技术，例如EUV的载具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm进阶的突破口。随着5nm技术的升级，EUV的重要性逐渐凸显出来，而载具的研究也越发紧迫。过去几年，家登精密一直专心做一件事，那就是载具的配套研究。去年，我们的技术产品已经达到国际先进水平，这是一个值得自豪的成绩。未来，7nm工艺逐渐向5nm升级，技术的研究会越来越困难
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ASML EUV
2017年，三星在半导体事业中的投资达到了260亿美元，创下历史新高，这主要得益于其存储芯片的巨大需求。
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三星 EUV
在前段时间，台积电创始人张忠谋在即将退休的时候却意外表示，其实中国台湾地区的企业本来就不应该死守，假如价钱够好把台积电卖掉也无妨。
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台积电 EUV
韩国三星电子2017财年(截至2017年12月)合并营业利润创下历史新高，但其危机感正在加剧。三星1月31日发布的财报显示，营业利润同比增长83%，其中仅半导体业务盈利就增至上年的2.6倍，约合3.5万亿日元，显著依赖市场行情，因此危机感增强。3大主要部门面临着半导体增长放缓等课题。三星能否在新经营团队的领导下，将智能手机和电视机的自主技术培育成新的收益源? 2018财年将成为试金石。
三星整体的营业利润为53.65万亿韩元，时隔4年再创历史新高。其中，半导体部门的服务器和智能手机存储销量坚挺，
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三星 EUV
EUV微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。 不过，根据日前在美国加州举办的ISS 2018上所发布的分析显示，实现5nm芯片所需的光阻剂仍存在挑战。
极紫外光(extreme ultraviolet;EUV)微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。 不过，根据日前在美国加州举办的年度产业策略研讨会(Industry Strategy Symposium;ISS 2018)所发布的分析显示，实现5nm芯片所需的光阻剂(photoresist)仍存在挑战。
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EUV 7nm
晶圆代工之战，7nm制程预料由台积电胜出，4nm之战仍在激烈厮杀。 Android Authority报道称，三星电子抢先使用极紫外光(EUV)微影设备，又投入研发能取代「鳍式场效晶体管」(FinFET)的新技术，目前看来似乎较占上风。
Android Authority报导，制程不断微缩，传统微影技术来到极限，无法解决更精密的曝光显像需求，必须改用波长更短的EUV， 才能准确刻蚀电路图。 5nm以下制程，EUV是必备工具。 三星明年生产7nm时，就会率先采用EUV，这有如让三星在6nm以下的竞
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4nm EUV
一时之间，仿佛EUV成为了衡量中国半导体设备产业发展水平的标杆，没有EUV就无法实现半导体强国之梦？
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EUV 5nm
近日，TRUMPF公司CTO及股东Peter Leibinger在谈到令人着迷的激光创新时重点提及极紫外光刻，也就是我们常说的EUV。他认为，EUV令人着迷的原因是其极富挑战性及对世界的重要影响。
Peter Leibinger
“如果我们无法实现EUV突破，摩尔定律将失效” Peter Leibinger表示：“其影响范围不仅仅是芯片行业，智能手机产业乃至整个电子装备产业都将改变运作方式。”
什么是EUV?
极紫外光刻(Ex
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TRUMPF EUV
新的光刻工具将在5nm需要，但薄膜，阻抗和正常运行时间仍然存在问题。
Momentum正在应用于极紫外(EUV)光刻技术，但这个谈及很久的技术可以用于批量生产之前，仍然有一些主要的挑战要解决。
EUV光刻技术 - 即将在芯片上绘制微小特征的下一代技术 – 原来是预计在2012年左右投产。但是几年过去了，EUV已经遇到了一些延迟，将技术从一个节点推向下一个阶段。
如今，GlobalFoundries，英特尔，三星和台积电相互竞争，将EUV光刻插入到7nm和/或5nm的大容量
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EUV
Brewer Science, Inc. 很荣幸宣布参加 2017 年的 SEMICON Taiwan。公司将与业界同仁交流台湾半导体制造趋势的见解，内容涵盖前端和后端的材料，以及次世代制造的流程步骤。 今日的消费性电子产品、网络、高效能运算 (HPC) 和汽车应用皆依赖封装为小型尺寸的半导体装置，其提供更多效能与功能，同时产热更少且操作时更省电。透过摩尔定律推动前端流程开发，领先的代工和整合组件制造商(IDM
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晶圆 EUV
台积电(2330)南京厂今日上午正式举行进机典礼，由董事长张忠谋亲自主持，大陆中央及地方贵宾云集，显示对台积电南京投资案重视。
海思及联发科将是首批客户
张忠谋表示，大陆集成电路在中国制造，台积电可助一臂之力。 南京厂预计2018年下半年量产，陆媒预估中国海思及联发科(2454)将是首批客户。
工程师已陆续由台湾进驻
今年上半年台积电工程师已经陆续由台湾进驻南京厂协助建厂事宜，8月16奈米大型机台陆续透过华航包机，由台湾运往南京禄口机场，而南京市政府为了迎接重量级贵宾，加快浦口
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台积电 EUV
晶圆代工龙头台积电将在今年10月23日盛大举办「台积公司30周年庆」论坛，以及于国家音乐厅举办音乐会。 台积电30周年庆活动将由当天下午举行的半导体论坛揭开序幕，由董事长张忠谋亲自主持，将邀请包括高通、博通、辉达(NVIDIA)、ADI、ASML、ARM、苹果等重量级客户及合作伙伴， 与张忠谋一起畅谈半导体产业未来10年展望。
台积电今年欢度30周年，活动当天将盛大举办「台积公司30周年庆」论坛，由董事长张忠谋亲自主持，与谈人包括了NVIDIA执行长黄仁勋、高通执行长Steve Mollenko
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台积电 EUV
对于7nm制程工艺，三星和台积电两大晶圆代工领域巨头都早已入手布局以便争抢IC设计业者们的订单。
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7nm EUV
euv介绍
在半导体行业，EUV一般指EUV光刻，即极紫外光刻。
极紫外光刻（英语：Extreme ultra-violet，也称EUV或EUVL）是一种使用极紫外（EUV）波长的光刻技术。
EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。
根据瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），这么短的波长可以提供极高 [
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