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TSMC 揭开纳米片晶体管的帷幕 英特尔展示了这些设备可以走多远

• 台积电本周在旧金山举行的 IEEE 国际电子设备会议 （IEDM） 上介绍了其下一代晶体管技术。N2 或 2 纳米技术是这家半导体代工巨头首次涉足一种新的晶体管架构，称为纳米片(Nanosheet)或全环绕栅极。三星有制造类似设备的工艺，英特尔和台积电都预计在 2025 年生产它们。与台积电目前最先进的工艺 N3（3 纳米）相比，这项新技术可将能效提高 15% 或提高 30%，同时将密度提高 15%。N2是“四年多的劳动成果”，台积电研发和先进技术副总裁Geoffrey Ye
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