- 前言65W氮化镓充电器能够为手机和电脑提供理想的快充体验,同时不需要PFC,从成本和体积上都很有优势,是工厂和消费者选择的主力产品。随着近年来平面变压器技术的成熟,通过使用平面变压器取代传统绕线变压器,充电器从常规的方块形态进化成为饼干形态,更加便于携带。智融科技推出了多款可用于氮化镓充电器的协议降压二合一芯片,在车充和氮化镓快充中应用非常广泛。智融推出了用于氮化镓开关管的初级主控芯片SW1106,支持直驱增强型氮化镓开关管,进一步完善氮化镓快充产品线,致力于推出一站式氮化镓快充电源解决方案。充电头网已经
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智融 氮化镓 充电器 快充
- 高可靠性、高性能氮化镓(GaN)电源转换产品的先驱和全球供应商Transphorm, Inc. 近日宣布推出七款参考设计,旨在加快基于氮化镓的USB-C PD电源适配器的研发。该参考设计组合包括广泛的开放式框架设计选项,覆盖多种拓扑结构、输出和功率(45W至140W)。SuperGaN®技术的差异化优势 电源适配器参考设计采用SuperGaN第IV代650V FET,具有设计简单、可靠性高和性能强劲的优势,这些特点已经成为Transphorm氮化镓器件的代名词。在最近的对比分析中,与1
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Transphorm 氮化镓
- 基于氮化镓器件的逆变器参考设计EPC9173无论是在尺寸、性能、续航里程、精度和扭矩方面,优化了电机系统且简化设计和加快产品推出市场的时间。我们可以把这种微型逆变器放进电机外壳中,从而把电磁干扰减到最小、实现最高的功率密度和最轻的重量。宜普电源转换公司(EPC)宣布推出EPC9173,它是一款三相无刷直流电机驱动逆变器,采用具备嵌入式栅极驱动器功能的EPC23101 eGaN®集成电路和一个3.3 mΩ导通电阻的浮动功率氮化镓场效应晶体管。EPC9173在20 V和85 V之间的输入电源电压下工作,峰值电
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氮化镓 电机
- 宜普电源转换公司(EPC)新推40 V、1.1 mΩ的氮化镓场效应晶体管(EPC2066),为设计工程师提供比硅MOSFET更小、更高效的器件,用于高性能、占板面积受限的应用。全球行业领先供应商宜普电源转换公司 为业界提供增强型氮化镓(eGaN®)功率场效应晶体管和集成电路,新推40 V、典型值为0.8 mΩ的EPC2066氮化镓场效应晶体管,为客户提供更多可选的低压氮化镓晶体管和可以立即发货。EPC2066的低损耗和小尺寸使其成为用于最新服务器和人工智能的高功率密度、40 V~60 V/12 V DC/
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氮化镓 场效应晶体管
- 深耕于高压集成电路高能效功率变换领域的知名公司Power Integrations近日宣布InnoSwitch™4-CZ系列高频率、零电压开关(ZVS)反激式开关IC再添新品。当与Power Integrations的ClampZero™有源钳位IC或者最近发布的HiperPFS™-5氮化镓功率因数校正IC搭配使用时,新IC可轻松符合最新的USB PD 3.1标准,设计出高达220W的适配器和充电器。“商务旅行者需要轻便、紧凑、强大的适配器,能够为他们所有的重要设备快速充电。新型InnoSwitch4-C
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开关 氮化镓 Power Integrations InnoSwitch4-CZ 开关IC
- 基础半导体器件领域的高产能生产专家Nexperia近日宣布与国际著名的为汽车行业提供先进电子器件的供应商KYOCERA AVX Components (Salzburg) GmbH建立合作关系,携手研发车规氮化镓(GaN)功率模块。双方长期保持着紧密的联系,此次进一步合作的目标是共同开发GaN功率器件在电动汽车(EV)上的应用。随着客运车辆日益电气化,市场对功率半导体的要求也在不断提高,需要在越来越高的功率密度下提供高效的功率转换。高压功率氮化镓场效应晶体管(GaN FET)与创新型封装技术相结合,可以满
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- ● 产品达到成本和性能双重目标,现进入认证测试阶段● 实现弹性量产和供货取得巨大进展服务多重电子应用领域、全球排名前列的半导体公司意法半导体(STMicroelectronics,简称ST)和世界排名前列的电信、工业、国防和数据中心半导体解决方案供应商MACOM技术解决方案控股有限公司(以下简称“MACOM”) 宣布,射频硅基氮化镓(RF GaN-on-Si)原型芯片制造成功。基于这一成果,意法半导体和MACOM将继续携手,深化合作。射频硅基氮化
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射频 氮化镓
- 在这篇文章里,imec氮化镓电力电子研究计划主持人Stefann Decoutere探讨在200V GaN-on-SOI智能功率芯片(IC)平台上,整合高性能萧基二极管与空乏型高电子迁移率晶体管(HEMT)的成功案例。该平台以p型氮化镓(GaN)HEMT制成,并成功整合多个GaN组件,将能协助新一代芯片扩充功能与升级性能,推进GaN功率IC的全新发展。同时提供DC/DC转换器与负载点(POL)转换器所需的开发动能,进一步缩小组件尺寸与提高运作效率。电力电子半导体的最佳解答:氮化镓(GaN)过去
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氮化镓 功率电路
- 宜普电源转换公司(EPC)新推100 V、2.2 mΩ的氮化镓场效应晶体管(EPC2071),为设计工程师提供比硅MOSFET更小、更高效的器件,用于高性能、占板面积受限的应用。全球行业领先供应商宜普电源转换公司为业界提供增强型氮化镓(eGaN®)功率场效应晶体管和集成电路,最新推出100 V、典型值为1.7 mΩ 的EPC2071氮化镓场效应晶体管,为客户提供更多可选的低压氮化镓晶体管和可以立即发货。 EPC2071是面向要求高功率密度的应用的理想器件,包括用于新型服务器和人工智能的
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氮化镓 场效应
- VIPERGAN50是意法半导体VIPerPLUS系列首款可在宽工作电压(9 V至23 V)下提供高达50 W功率的产品。这也是ST首款采用氮化镓(GaN)晶体管的VIPer器件。得益于650 V GaN器件,VIPERGAN50在自适应间歇工作模式(burstmode) 开启的情况下,待机功耗低于30 mW。此外,该器件的保护功能可提高稳健性并有助于减少所用的物料。QFN5x6 mm封装也使其成为业内同等功率输出中封装最小的器件之一。VIPERGAN50已批量供货,配有USB-PD供电端口的开
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- 半导体研究随着以空间技术、计算机为导向的第三次科技革命(1950年)拉开帷幕。半导体产业作为知识技术高度密集、资金密集、科研密集型产业,由上游(半导体材料)、中游(光电子、分立器件、传感器、集成电路)、下游(终端电子产品)组成。第一代半导体材料:硅、锗元素。金属-氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)、绝缘栅双极型晶体管(IGBT)已在各类电子器件、集成电路中广泛应用。第二代半导体材料:砷化镓、磷化铟等化合物。禁带宽度比第一代半导体材料大,但击穿电压不够高,在高温、高功率下应用效果不理想,砷化镓源材料有
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- 当世界继续努力追求更高速的连接,并要求低延迟和高可靠性时,信息通信技术的能耗继续飙升。这些市场需求不仅将5G带到许多关键应用上,还对能源效率和性能提出了限制。5G网络性能目标对基础半导体器件提出了一系列新的要求,增加了对高度可靠的射频前端解决方案的需求,提高了能源效率、更大的带宽、更高的工作频率和更小的占地面积。在大规模MIMO(mMIMO)系统的推动下,基站无线电中的半导体器件数量急剧增加,移动网络运营商在降低资本支出和运营支出方面面临的压力更加严峻。因此,限制设备成本和功耗对于高效5G网络的安装和
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氮化镓 GaN
- 近期,苹果“爆料大神”郭明錤透露,苹果可能年某个时候推出下一款氮化镓充电器,最高支持30W快充,同时采用新的外观设计。 与三星、小米、OPPO等厂商积极发力氮化镓快充产品相比,苹果在充电功率方面一直较为“保守”。去年10月,伴随新款MacBook Pro的发布,苹果推出了140W USB-C电源适配器(下图),这是苹果首款采用氮化镓材料的充电器,售价729元。图片来源:苹果 如今,苹果有望持续加码氮化镓充电器,氮化镓功率半导体市场有望迎来高歌猛进式发展。手机等快充需求上升,氮化镓功率市场规模将达1
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氮化镓 GaN
- EETOP编译整理自techinsights 在处理氮化镓(GaN)时,与硅(Si)相比,还有两个额外的考虑因素可以优化器件性能。 由于GaN/AlGaN异质结界面上的二维电子气体(2DEG)通道,GaN具有快速开关的潜力。 氮化镓的导热性相对较差。(在300K时约1.3W/cm.K,而硅(Si)为1.49W/cm.K和碳化硅(SiC)为3.7W/cm.K) 虽然体积热导率并不明显低于硅,但请记住更高的电流密度-它被限制在异质结周围的一个小区域。渐进式的改进 虽然不理想,但传统的硅封装可以而且已
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- 氮化镓(GaN)是电力电子行业的热门话题,因为它可以使得80Plus钛电源、3.8 kW/L电动汽车(EV)车载充电器和电动汽车(EV)充电站等设计得以实施。在许多具体应用中,由于GaN能够驱动更高的功率密度和具有更高的效率,因此它取代了传统的MOSFET晶体管。但由于GaN的电气特性和它所能实现的性能,使得使用GaN元件进行设计时,要面临与硅元件截然不同的一系列挑战。 GaN场效应晶体管包括耗尽型(d-mode)、增强型(e-mode)、共源共栅型(cascode)等三种类型,并且每种都具有各自的
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氮化镓介绍
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