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光刻机 文章 进入光刻机技术社区

斥资440亿元采购EUV光刻机?台积电:不评论传闻

  • 9月30日讯,此前有媒体报道,由于先进制程推进顺利和订单量扩大,台积电将加大EUV光刻机的采购力度,预计到2021年底采购量为55台左右。台积电方面回复称:公司不评论市场传闻。据了解,一台EUV光刻机售价近8亿元,55台EUV光刻机价值约440亿元。相关阅读:台积电明年底前将累计采购55台EUV光刻机:花费超440亿元出处:快科技 作者:万南芯片制程已经推进到了7nm以下,这其中最关键的核心设备就要数EUV光刻机了,目前全世界只有荷兰ASML(阿斯麦)可以制造。来自Digitimes的报道称,台积电打算在
  • 关键字: EUV  光刻机  台积电  

90%零件需全球采购 制造一台光刻机究竟有多困难

  • 近段时间有关芯片以及光刻机的话题非常热门,我们今天也来探讨一下光刻机的话题。一台能生产先进工艺芯片的光刻机后面究竟需要多少供应链去支持?制造一台光刻机需要多少个国家的公司参与其中?看看制造一台光刻机究竟有多困难。ASML上游供应商全球最顶尖的光刻机生产商ASML(阿斯麦尔)生产一台5nm光刻机或许需要十余万零部件,重量达到了180吨,单单组装就需要一年。光刻机,集人类智慧于一身的产物。不仅如此,生产一台光刻机需要供应链上不同的供应商配合,ASML的光刻机中超过90%的零件都是面向全球采购,整合了全世界最优
  • 关键字: 光刻机  

华为+中科院攻关EUV光刻机?ASML华裔工程师:天方夜谭

  • 9月16日,中国科学院院长白春礼在国新办发布会上介绍称,“率先行动”计划第二阶段要把美国“卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局,集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关。白春礼称,从2021年到2030年未来的十年是“率先行动”计划第二阶段。对此,首先要进行体制机制改革。他称,目前已经设立了创新研究院、卓越创新中心、大科学中心和特色所四类机构,目的是根据科研性质不同进行分类定位、分类管理、分类评价、分类资源配置。“这个工作还没有完,只是进行了一部分,所以第二阶段我们争取在2025年要把四类机构全部做完,
  • 关键字: 华为  中科院  EUV  光刻机  ASML  

武汉弘芯截至去年底已投153亿 如今光刻机都被抵押

  • 近期,武汉弘芯半导体项目引发行业震动。该项目投资1280亿元,作为武汉市明星项目上马,并邀请到曾经履职台积电和中芯国际的半导体行业风云人物蒋尚义担任总经理,如今却传出停工甚至可能烂尾。7月30日发布的《上半年东西湖区投资建设领域经济运行分析》中明确提及,武汉弘芯半导体项目“存在较大资金缺口,随时面临资金链断裂导致项目停滞的风险”。不过,上述文件已被删除。事实究竟如何?武汉弘芯半导体项目运营方为武汉弘芯半导体制造有限公司(以下简称武汉弘芯),项目位于武汉临空港经济技术开发区。9月3日,《每日经济新闻》记者现
  • 关键字: 武汉弘芯  光刻机  

台积电买下市场上50%的EUV光刻机 贡献了60%的产能

  •   在本周召开的台积电技术研讨会上,最重要的中心信息之一是,该公司在半导体制造领域处于世界领先地位,特别是在领先的工艺技术领域。  为进一步传达信息,台积电展示了一张幻灯片,指出了它与其他产品的相对位置:通过结合ASML的声明和自己的内部采购单,台积电预测他们已安装了全世界约约50%的激活EUV机器。除此之外,该公司还拥有约60%的EUV晶圆累计生产量。  大型晶圆厂目前已知的公开EUV工艺包括TSMC的7+和N5,以及三星的7LPP(及以下任何产品),英特尔的EUV努力仅在明年进入其自己的7nm产品组合
  • 关键字: 台积电  光刻机    

华为强攻半导体制造,无奈之举恐无心插柳

  • 通过这次华为挖角半导体设备研发人员的事件,切实提升中国半导体制造端研发人员的待遇水平,为中国半导体的未来吸纳更多年轻人
  • 关键字: 华为  半导体制造  光刻机  

14nm工艺已量产华为麒麟芯片 中芯国际7nm研发多时

  • 作为国内最先进的晶圆代工厂,中芯国际SMIC去年底已经量产了14nm工艺,Q1季度14nm工艺贡献了1.3%的营收,预计到明年将贡献10%的营收。中芯国际14nm工艺一大重要进展就是成功为华为代工麒麟710A处理器,四颗A73+四颗A53八核心设计,主频2.0GHz,已经用于荣耀4T系列手机上。在14nm之外,中芯国际还有基于14nm工艺的12nm工艺改良版,此前官方表示12nm工艺比14nm晶体管尺寸进一步缩微,功耗降低20%、性能提升10%,错误率降低20%,目前已经启动试生产,与客户展开深入合作,进
  • 关键字: 中芯国际  7nm  光刻机  

单价超10亿元 Intel台积电三星每年需要多少EUV光刻机?

  • 作为半导体行业最重要的生产设备,光刻机实在太重要了,整个芯片生产1/3的时间及成本都耗费在光刻上,EUV光刻机更是只有荷兰ASML一家公司能产,单台售价超过10亿美元,这个生意一般人做不了。半导体工艺在7nm及以上的时候,不用EUV光刻机也能制造,就是成本有点高。目前对EUV光刻机有需求的厂商就三个——Intel、台积电、三星,其中后两家的EUV工艺已经量产,Intel的要到2021年7nm工艺上才会用到EUV光刻机。那这三家公司对EUV光刻机有多少需求?根据ASML提供的计算方式,每月4.5万片晶圆、一
  • 关键字: Intel  台积电  三星  光刻机  

光刻机制造商ASML:疫情中公司订单依然强劲

  • 据外媒报道,由于担心新型冠状病毒疫情带来的不确定性,三星和台积电的半导体设备供应商ASML宣布撤回2020年第二季度的业绩预期。不过,这家生产极紫外线(EUV)光刻设备的荷兰公司补充说,该公司的设备订单依然强劲,需求也没有变化。ASML首席执行官彼得·温宁克(Peter Wennink)说:“需求前景没有变化,今年我们没有遇到任何推迟或取消交易的情况。尽管当前形势充满挑战,但到目前为止,我们能够继续保持正常业务。”但温宁克补充说:“目前新型冠状病毒疫情将如何影响全球GDP发展、终端市场、我们的制造能力以及
  • 关键字: 光刻机  ASML  

EUV光刻机订单少了?ASML下调Q1季度营收预期 暂停股票回购

  • 由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多个行业的生产、消费都受到影响了,半导体行业也不例外。ASML公司今天宣布下调Q1季度营收预期,同时暂停股票回购,不过他们没公布EUV光刻机出货量是否受影响了。今年1月份ASML公司发布了2019年Q4及全年财报,2019年交付了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。展望2020年Q1季度,ASML之前预计营收31到33亿欧元之间,毛利率46%到47%之间,研发费用约为5.5亿欧
  • 关键字: 阿斯麦  光刻机  极紫外光刻  

引入EUV技术的6nm,才是真正的6nm

  • 只有引入EUV技术的6nm才是真正的6nm,而这项技术也将伴随未来可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
  • 关键字: EUV  6nm  光刻机  

90%市场被国外厂商垄断 光刻胶国产化急需提速!

  • 近年来,虽然中国在芯片设计领域有了突飞猛进的发展,涌现出了一批以华为海思为代表的优秀的芯片设计企业,但是在芯片制造领域,中国与国外仍有着不小的差距。不仅在半导体制程工艺上落后国外最先进工艺近三代,特别是在芯片制造所需的关键原材料方面,与美日欧等国差距更是巨大。即便强大如韩国三星这样的巨头,在去年7月,日本宣布限制光刻胶、氟化聚酰亚胺和高纯度氟化氢等关键原材料对韩国的出口之后,也是被死死的“卡住了脖子”,急得如热锅上的蚂蚁,却又无可奈何。最后还是日本政府解除了部分限制之后,才得以化解了危机。而在美国制裁中兴
  • 关键字: CPU处理器  光刻机  光刻胶  

ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限

  • 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告,去年他们出货了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩
  • 关键字: 光刻机  极紫外光刻  

ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限

  • 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告,去年他们出货了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩
  • 关键字: 光刻机  极紫外光刻  

佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年:半导体器件这样炼成

  • 半导体器件被广泛应用于从智能手机到汽车等各个领域,在其制造过程中半导体光刻机必不可少。你知道吗,日本首台半导体光刻机发售已经50周年了。今日,佳能中国宣布,佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年。佳能PPC-1于1970年发售,随着数字技术的迅速发展,佳能的半导体光刻机也在不断升级。首台日本产半导体光刻机PPC-1据悉,佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术,佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后,为了进一步扩大业务范围,佳能
  • 关键字: 佳能  光刻机  
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