- 中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加，他出面解答了一些媒体关心的话题。 尽管UMC(联电)和Globalfoundries(格罗方德，格芯)先后宣布放弃7nm制程及更先进工艺的研发，但ASML依然对EUV光刻机的前景表示乐观。 此前有消息指出，中芯国际(SMIC)今年已向ASML订购了一台EUV光刻机，预计明年交付，用于7nm节点。 同时，传统的沉浸式光刻机方面，沈波称，今年下半年ASML已开始出货家族最先进的NXT：2000i，很快会在中国市场上也见到
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ASML 光刻机
- 在高科技领域，美国这一年来加强了对中国人的防范，不只限于美国本土，就连欧洲公司也受到了美国政府的压力，荷兰ASML被曝禁止招收中国籍员工。 在光刻机领域，荷兰ASML公司几乎垄断了全球高端光刻机市场，在EUV光刻机中更是独一份，7nm及以后的工艺都要依赖EUV光刻机。在高科技领域，美国这一年来加强了对中国人的防范，不只限于美国本土，就连欧洲公司也受到了美国政府的压力，荷兰ASML被曝禁止招收中国籍员工。 如果说半导体产业是制造工业的皇冠，那么光刻机可以说是皇冠上的明珠，因为光刻机是半导体制造中最关
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ASML 光刻机
- 业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris(纳斯达克：ENTG)日前发布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是与全球最大的芯片制造设备制造商之一的ASML密切合作而开发的，已在全球率先获得ASML的认证，用于NXE:3400B等产品。 随着半导体行业开始更多地使用EUV光刻技术进行先进技术制程的大批量制造(HVM)，对EUV光罩无缺陷的要求比以往任何时候都要严格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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Entegris EUV ASML
- 据外媒报道，光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i双工件台深紫外光刻机)，可用于7nm和5nm节点。 NXT：2000i将是NXE：3400B EUV光刻机的有效补充，毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。 同时，NXT：2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品，达到了和3400B一样的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)。 ASML将于本季度末开始量产Twin
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ASML 光刻机
- 荷兰有恩智浦、ASML、飞利浦等世界领先的半导体企业，而国内半导体产业的基础目前依旧薄弱。
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ASML 恩智浦
- 载具对于曝光机发挥保护、运送和存储光罩等功能十分重要。家登精密多年来致力于研究曝光机载具，并为全球最大的半导体设备制造商ASML提供载具相关技术。
我们主要研究EUV的配套技术，例如EUV的载具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm进阶的突破口。随着5nm技术的升级，EUV的重要性逐渐凸显出来，而载具的研究也越发紧迫。过去几年，家登精密一直专心做一件事，那就是载具的配套研究。去年，我们的技术产品已经达到国际先进水平，这是一个值得自豪的成绩。未来，7nm工艺逐渐向5nm升级，技术的研究会越来越困难
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ASML EUV
- 据南京日报报道，8月18日，全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦(ASML)在南京的分公司正式开业。作为台积电的重要合作伙伴及上游供应商，该企业选择落户在南京江北新区研创园孵鹰大厦。
跟随台积电的步伐，ASML在南京的布局在一年前启动。去年11月考察江北新区研创园后，被园区前端的产业定位、创新的整体设计、完善的软硬件配套所吸引。今年8月，ASML南京分公司完成了750平米办公设施搭建，以及服务工程师、装机工程师、应用工程师等多职能覆盖的团队组建。谈及ASML未来对中国半导体市场前景的展望，该公司
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ASML 台积电
- 全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦 (ASML) 公布最新2017第二季财报。ASML表示，由于不论逻辑芯片和DRAM客户都积极准备将EUV导入芯片量产阶段，EUV光刻机目前第二季已累积27台订单总计28亿欧元。
ASML 第二季营收净额 (net sales)21亿欧元，毛利率(gross margin)为45%。在第二季新增8台EUV系统订单，让EUV光刻系统的未出货订单累积到27台，总值高达28亿欧元。
ASML预估2017第三季营收净额(net sales)约为22亿欧元，毛
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ASML EUV
- 全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦(ASML)近日公布2017第二季财报。ASML第二季营收净额21亿欧元，毛利率为45%。在第二季新增8台EUV系统订单，让EUV光刻系统的未出货订单累积到27台，总值高达28亿欧元。
预估2017第三季营收净额约为22亿欧元，毛利率约为43%。因为市场需求和第二季的强劲财务表现，ASML预估2017全年营收成长可达25%。
ASML总裁暨执行长温彼得指出:“ASML今年的主要营收贡献来自内存芯片客户，尤其在DRAM市场需求的驱动下，这部分的
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EUV ASML
- ASML是集合了西方光学应用科学与半导体尖端制造设备技术于一体的科技庞然大物，它的影响力是任何一个国家在半导体领域都无法忽视的。
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ASML 光刻机
- 北京时间4月24日晚间消息，尼康今日宣布，已对荷兰半导体行业光刻系统供应商阿斯麦(ASML)和德国光学及光电子学设备厂商卡尔蔡司(Carl Zeiss)提起诉讼，指控这两家公司未经授权而使用其光刻技术。
尼康称，已在荷兰、德国和日本对阿斯麦和卡尔蔡司提起诉讼。卡尔蔡司是阿斯麦的光学设备供应商。尼康在一份声明中称：“阿斯麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下，在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。”
当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场
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尼康 ASML
- SEMICON China 2017开幕日即3月14日，上海微电子装备(集团)股份有限公司(后简称“SMEE”)宣布，SMEE 与荷兰公司 ASML 签署战略合作备忘录(MoU)，为双方进一步的潜在合作奠定了基础。
根据这项合作备忘录，ASML 和 SMEE 将探索就 ASML 光刻系统的特定模块或半导体行业相关产品进行采购的可能性。此次MoU的签署代表 ASML 继日前与上海集成电路研发中心(ICRD)宣布合作之后，进一步深入参与中国的IC产业的发展。
光刻机被称
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光刻机 ASML
- 3月14日，上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)宣布，与世界领先的芯片制造设备的领先厂商阿斯麦 (ASML) 签署战略合作备忘录(MoU)，为双方进一步的潜在合作奠定了基础。
根据这项合作备忘ASML和SMEE将探索就ASML光刻系统的特定模块或半导体行业相关产品进行采购的可能性。
“全球IC行业都在积极寻求技术蓝图进来一步缩小芯片尺寸，为商业和消费者用户提供更性能更强但节能的电子组件。这一技术蓝图的有效执行需要精密复杂的制造技术，这只能靠各领先公司、研究机构和院
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SMEE ASML
- 摩尔定律(Moore’s Law)自1970年代左右问世以来，全球半导体产业均能朝此一定律规则前进发展，过去数十年来包括光微影技术(Photolithography)等一系列制程技术持续的突破，才得以让半导体产业能依照摩尔定律演进，进而带动全球科技产业研发持续前进。
但为延续产业良性发展，光是依赖于传统微影技术仍不够，因此芯片制造商也正在苦思试图进行一次重大且最具挑战的变革，即发展所谓的“极紫外光”(EUV)微影技术，该技术也成为台积电、英特尔(Intel)等
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ASML EUV
- 日本光学及半导体设备大厂尼康(Nikon)未来可能进行人事调整，以数位相机及半导体设备事业为主，希望转型重建企业经营。
根据报导，日本半导体事业始于日本政府的产业计划，1970年代由官方与民间合作的结果，建立了从半导体设备到半导体生产线的完整事业。当时名为日本光学工业的尼康，借其光学技术推出先进的曝光装置，制造精密半导体的线路，是日本半导体产业在1980~1990年代与美国平起平坐的主因。
但是，1984年从荷兰电机大厂飞利浦(Philips)独立的ASML，由于积极与外界学校及厂商合作，
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